IGBT的關鍵：散熱和背板工藝 IGBT的關鍵有兩點，一是散熱，二是背板工藝。
IGBT的正面工藝和標準BCD的LDMOS沒區別，區別在背面，背面工藝有幾點，首先是減薄，大約需要減薄6-8毫米，減得太多容易碎片，減得太少沒有效果。接下來是離子注入，注入一層薄磷做緩沖層，第四代需要兩次注入磷，本來硅片就很薄了，兩次注入很容易碎片。 然后是清洗，接下來金屬化，在背面蒸鍍一層鈦或銀，最后是Alloy，因為硅片太薄，很容易翹曲或碎片。英飛凌特別擅長減薄技術。
